三星冲击高端代工新挑战：削减 High-NA EUV 光刻机采购、被曝中止和 ASML 合建研究中心

8月20日消息，据韩媒曝料称，三星计划削减 High-NA EUV 采购规模，而且和 ASML 联合创立研究中心项目也遇到诸多障碍。三星于 2023 年 12 月和 ASML 签署了一份谅解备忘录（MOU），将在韩国首都圈建立一个 EUV 联合研究中心。

据援引消息源报道，三星原本计划在未来 10 年内，采购 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后续 Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机，而最新报道称三星已经通知 ASML，不仅削减 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻机采购数量，而且后续仅采购 EXE:5200。

报道称这一决定是在副董事长 Jun Young-hyun 被任命为 DS（设备解决方案）部门的新负责人，并重新审查正在进行的项目和投资之后做出的。